等離子去膠機概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。

等離子去膠機產品特點

• 緊湊型立式系統
• 手動上下載片
• 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
• 兼容100級超凈間使用
• 淋浴頭、ICP或微波等離子源
• 旋轉樣品臺
• RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
• 全自動或手動RF調諧
• z多可支持8個MFC帶電拋光的氣體管路
• PC計算機控制的氣動閥
• 帶密碼保護的多級訪問控制
• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
• 機械泵的壓力可達到10mTorr
• 250 l/s的渦輪分子泵
• 極限真空為5x10-7Torr
• 完整的安全聯鎖

等離子去膠機應用：

• 失效分析中的扁平化處理
• 光刻膠剝離或灰化
• 表面沾污清除和內腐蝕（深腐蝕）應用
• 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
• 剝離金屬化工工藝前去除浮渣
• 提高黏附性，消除鍵合問題
• 塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能
• 產生親水或疏水表面

等離子去膠機型號：

• NPC-4000獨立式等離子清洗去膠系統
• NPC-3500緊湊型獨立式等離子清洗去膠系統
• NPC-3000臺式等離子清洗去膠系統
• NPC-1000臺式簡化型的等離子清洗去膠系統